Tetracloreto de háfnio | Pó de HfCl4 | CAS 13499-05-3 | preço de fábrica

Descrição curta:

O tetracloreto de háfnio tem aplicações importantes como precursor do óxido de háfnio, catalisador para síntese orgânica, aplicações nucleares e deposição de filmes finos, destacando sua versatilidade e importância em vários campos tecnológicos.

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Descrição do produto

Breve introdução

Nome do produto: Tetracloreto de háfnio
Nº CAS: 13499-05-3
Fórmula composta: HfCl4
Peso molecular: 320,3
Aparência: Pó branco

Especificação

Item	Especificação
Aparência	Pó branco
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Aplicativo

Precursor de dióxido de háfnioO tetracloreto de háfnio é usado principalmente como precursor para a produção de dióxido de háfnio (HfO₂), um material com excelentes propriedades dielétricas. O HfO₂ é amplamente utilizado em aplicações dielétricas de alto k para transistores e capacitores na indústria de semicondutores. O HfCl₂ é essencial na fabricação de dispositivos eletrônicos avançados devido à sua capacidade de formar filmes finos de dióxido de háfnio.
Catalisador de síntese orgânica: O tetracloreto de háfnio pode ser usado como catalisador para diversas reações de síntese orgânica, especialmente a polimerização de olefinas. Suas propriedades de ácido de Lewis auxiliam na formação de intermediários ativos, melhorando assim a eficiência das reações químicas. Esta aplicação é valiosa na produção de polímeros e outros compostos orgânicos na indústria química.
Aplicação NuclearDevido à sua alta seção transversal de absorção de nêutrons, o tetracloreto de háfnio é amplamente utilizado em aplicações nucleares, especialmente em barras de controle de reatores nucleares. O háfnio pode absorver nêutrons com eficácia, sendo um material adequado para regular o processo de fissão, o que ajuda a melhorar a segurança e a eficiência da geração de energia nuclear.
Deposição de filme fino: O tetracloreto de háfnio é usado em processos de deposição química de vapor (CVD) para formar filmes finos de materiais à base de háfnio. Esses filmes são essenciais em uma variedade de aplicações, incluindo microeletrônica, óptica e revestimentos protetores. A capacidade de depositar filmes uniformes e de alta qualidade torna o HfCl4 valioso em processos avançados de fabricação.