Tetracloreto de hafnium | Pó de hfcl4 | CAS 13499-05-3 | Preço da fábrica

Tetracloreto de hafnium | Pó de hfcl4 | CAS 13499-05-3 | Imagem em destaque do preço da fábrica

Breve descrição:

O tetracloreto de hafnium tem aplicações importantes como precursor de óxido de hafnium, catalisador para síntese orgânica, aplicações nucleares e deposição de filmes finos, destacando sua versatilidade e importância em vários campos tecnológicos.

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Detalhes do produto

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Descrição do produto

Breve introdução

Nome do produto: tetracloreto de hafnium
CAS no.: 13499-05-3
Fórmula composta: hfcl4
Peso molecular: 320.3
Aparência: pó branco

Especificação

Item	Especificação
Aparência	Pó branco
HFCL4+ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Aplicativo

Precursor de dióxido de hafnium: O tetracloreto de hafnium é usado principalmente como precursor para produzir dióxido de hafnio (HFO2), um material com excelentes propriedades dielétricas. O HFO2 é amplamente utilizado em aplicações dielétricas de alto K para transistores e capacitores na indústria de semicondutores. O HFCL4 é essencial na fabricação de dispositivos eletrônicos avançados devido à sua capacidade de formar filmes finos de dióxido de Hafnium.
Catalisador de síntese orgânica: O tetracloreto de hafnium pode ser usado como catalisador para várias reações de síntese orgânica, especialmente polimerização de olefina. Suas propriedades do ácido de Lewis ajudam a formar intermediários ativos, melhorando assim a eficiência das reações químicas. Essa aplicação é valiosa na produção de polímeros e outros compostos orgânicos na indústria química.
Aplicação nuclear: Devido à sua alta seção transversal de absorção de nêutrons, o tetracloreto de hafnium é amplamente utilizado em aplicações nucleares, especialmente em hastes de controle de reatores nucleares. O hafnium pode absorver efetivamente os nêutrons, por isso é um material adequado para regular o processo de fissão, o que ajuda a melhorar a segurança e a eficiência da geração de energia nuclear.
Deposição de filme fino: O tetracloreto de hafnium é usado em processos de deposição de vapor químico (CVD) para formar filmes finos de materiais à base de Hafnium. Esses filmes são essenciais em uma variedade de aplicações, incluindo microeletrônicos, ópticas e revestimentos de proteção. A capacidade de depositar filmes uniformes e de alta qualidade torna o HFCL4 valioso em processos avançados de fabricação.