O Si3N4 possui alta pureza, distribuição de tamanho de partícula de faixa estreita e maior área de superfície específica;
Alta atividade de superfície, baixa densidade aparente, refletividade UV superior a 95% e taxa de absorção da banda infravermelha superior a 97%.
| Item | Pureza | APS | SSA | Cor | Formação de cristais | Morfologia | Densidade aparente |
| Si3N4 | >99,9% | 20 nm | 93m2/g | Branco | amorfo | esférico | 0,09g/cm3 |
| Si3N4 | >99,9% | 100 nm | 65m2/g | Cinza Branco | Alfa | cúbica de face centrada | 0,23g/cm3 |
| Si3N4 | >99,9% | 800 nm | 49m2/g | Cinza Verde Claro | Alfa | cúbica de face centrada | 0,69g/cm3 |
| Marca | Epoch-Chem | ||||||
1) Dispositivo de estrutura de fabricação: como metalurgia, indústria química, máquinas, aviação, indústrias aeroespaciais e de energia para usar rolamentos de esferas e rolos, rolamentos deslizantes, luva, válvula e componentes estruturais resistentes ao desgaste, alta temperatura e corrosão.
2) Tratamento de superfície de metais e outros materiais: como moldes, ferramentas de corte, lâminas de turbina, rotor de turbina e revestimentos de paredes de cilindros.
3) Materiais compostos: como metais, cerâmicas e compostos de grafite, borracha, plásticos, revestimentos, adesivos e outros compostos à base de polímeros.
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